最終更新日:2016-01-22

ご利用のための推奨環境
HELP
TOPへ 戻る
【分野別一覧】 分野別ボタンをクリックすると該当分野の特許情報一覧が表示されます。
 検索キーワード 
           ・検索対象(発明の名称, 職務発明者) から検索キーワードを含む特許を抽出します。
           ・検索キーワードを複数入力する場合は、[スペース(空白)] で区切り [AND]又は[OR]を選択後、[検索]ボタンをクリックします。

カテゴリ分野:【ALL】  497 件ありました
            9   |   10   |   11   |   12   |   13   |   14   |   15            
表示レコード:   221 - 240 / 497  件づつ
【並び替え条件】 公開番号
 項目下の ▲ (昇順) ▼ (降順) ボタンをクリックし一覧を並び替えます。
 並び替え条件は、最初に選んだ項目が最優先されます。(最優先項目 >> 2番目に優先される項目 >> … )
No. 発明の名称
出願先
   
公開番号
   
公開日
   
特許番号
   
登録日
   
共願
   
221 液体採取装置、測定装置並びにそれらを備えた液体採取測定システム JP 2009/093306  2009-07-30  5066583  2012-08-17 あり
222 高周波加速制御装置 JP 2010-003538  2010-01-07  5066694  2012-08-24 あり
223 粒子線照射装置及び治療計画装置 JP 2010-029594  2010-02-12    -
224 エネルギーと位置情報を利用した放射線検出方法及び装置 JP 2010-032214  2010-02-12  4660706  2011-01-14 あり
225 照射線量確認システム及び照射線量確認方法 JP 2010-032419  2010-02-12  5288542  2013-06-14 -
226 子宮頚部腺癌の診断又は子宮頸癌の予後の診断のためのマーカー JP 2010-041349  2010-04-15  5371017  2013-09-27 -
227 重粒子ビームの線質及び生物効果の計算方法と計算プログラム JP 2010-057656  2010-03-18  5156548  2012-12-14 あり
228 フラスコ JP 2010-058077  2010-03-18  5004306  2012-06-01 -
229 粒子線治療装置のビーム位置モニタ及びビーム位置測定方法 JP 2010-060523  2010-03-18  5164110  2012-12-28 あり
230 陽電子放出放射性同位元素放射線源 JP 2010-091391  2010-04-22  5032435  2012-07-06 あり
231 液体採取装置およびその方法 JP 2010-106580  2010-09-23  5564489  2014-06-20 あり
232 遮蔽型放射線治療・画像化複合装置、及び、その制御プログラム JP 2010-109586  2010-09-30  5339551  2013-08-16 -
233 γ線を放出する陽電子崩壊核種の放射能絶対測定方法、放射線検出器集合体の検出効率決定方法、及び、放射線測定装置の校正方法 JP 2010-156673  2010-07-15  5574148  2014-07-11 あり
234 放射線量測定方法と放射線量測定装置 JP 2010-169645  2010-08-05  5071813  2012-08-31 あり
235 幹細胞におけるTex19遺伝子の発現量の変動に基づき幹細胞での多能性又は分化能を判定又は検出する方法 JP 2010-172225  2010-08-12    -
236 コイルシステム及びこれを用いた粒子加速器 JP 2010-212029  2010-09-24  5414312  2013-11-22 あり
237 コイルシステム及びこれを用いた粒子加速器 JP 2010-212030  2010-09-24  5420932  2013-11-29 あり
238 磁場形成装置及びこれを用いた粒子加速器 JP 2010-212031  2010-09-24  5524494  2014-04-18 あり
239 土壌中カドミウムの検出方法 JP 2010-220562  2010-10-07    -
240 粒子線照射装置 JP 2010-220975  2010-10-07  5477736  2014-02-21 -

※ 平成 5年以降に国内で公開・登録された特許を掲載(PCT出願を含む)